ЧетвергЧт, 28 марта 13:23 16+
Сейчас  °C
USD$ 92,59 ▲0,02 EUR 100,27 ▼-0,14

В Национальном центре физики и математики прошел научный семинар, посвященный EUV-литографии

14 марта 2023 года, 19:45

в России существуют технологии, позволяющие разрабатывать литографическое оборудование.

В Национальном центре физики и математики (НЦФМ) прошел научный семинар, посвященный EUV-литографии и перспективам создания отечественного EUV-литографа для микроэлектроники.

Как рассказал научный руководитель НЦФМ, академик РАН Александр Сергеев, инициатива проведения семинара исходила от обучающихся в Центре магистрантов:

«Тема первого семинара выбрана не случайно. У нас учится много ребят, лазерщиков и плазменщиков, проходят занятия по лазерно-плазменной тематике, которая, на мой взгляд, является сегодня одной из определяющих в технологическом развитии — любые достижения или изменения в этой области оказывают существенное влияние на дальнейшие события в области развития науки и техники».

Заведующий отделом многослойной рентгеновской оптики Института физики микроструктур (ИФМ) РАН Николай Чхало рассказал о существующих в России заделах развития данного направления, промежуточных результатах проводимых НИОКР и планах дальнейшего развития работ. Он отметил, что в России существуют критические технологии, позволяющие разрабатывать и производить литографическое оборудование. В частности, есть сверхточная рентгеновская оптика (аберрации ≤1 нм), экспериментальные образцы источников рентгеновского излучения и масок, прототип микроскопа для масок в EUV-диапазоне. Более детальной проработки требуют имеющие заделы в системах совмещения и сканирования.

«Нами предложен проект высокопроизводительного рентгеновского литографа для производства микросхем по передовым технологическим нормам на основе источника излучения с длиной волны 11,2 нм. У нас есть экспериментальные результаты, указывающие на перспективы создания такого источника излучения на основе ксенона. Под него была разработана оптика с высоким коэффициентом отражения — рутениево-бериллиевые зеркала. В составе зеркальной оптической схемы литографа она будет примерно в 1,5 раза эффективнее того, что создано в зарубежных компаниях», — рассказал он.

По плану, которым поделился Николай Чхало, проект завершится к 2030 году. На первом этапе (2023−2024 гг.), после доработки необходимых критических технологий, ученые планируют создать альфа-литограф, который станет прототипом для отработки операций всего технологического цикла. Реализация всего проекта позволит наладить в России производство литографов, необходимых компонентов и систем для отечественных фабрик производства микросхем.

В ближайшее время в НЦФМ пройдут семинары по тематике атмосферного электричества и квантовых коммуникаций. В целом же предполагается, что каждая из десяти секций НЦФМ проведет семинары по направлениям проводимых исследований. По словам Александра Сергеева, проведение подобных семинаров в будущем позволит не только знакомить научное сообщество, студентов и магистрантов с последними достижениями российских ученых, с новыми возможностями, но и привлекать на площадку НЦФМ (включает кооперацию 55 научных институтов и университетов страны) новые направления научно-исследовательской деятельности, тем самым формируя научный центр будущего.

«Те, кто учится сегодня в „МГУ Саров“, нацелены в дальнейшем остаться работать в периметре НЦФМ. Для этого нам важно заинтересовать их новыми интересными задачами, которые здесь будут решаться», — отметил он.

Справка

Литография — технология переноса рисунка с шаблона на конкретную поверхность, широко используется в микроэлектронике и других видах микротехнологий, а также в производстве печатных плат.

Литографическое оборудование — один из важных элементов в создании передовых технологий для полупроводниковой индустрии. На сегодняшний день нидерландская компания ASML является монополистом в производстве оборудования для ЭУФ литографии, владеет технологией и системами, способными давать излучение с длиной волн 13,5 нм (EUV).

EUV — экстремальный ультрафиолет, относится к длине волны света. Сейчас наиболее широко используется глубокий ультрафиолет (Deep Ultraviolet (DUV)) с длиной волны 248 и 193 нм, но это оборудование уже относится к предыдущему поколению, новое поколение уже использует EUV.

Возрастное ограничение: 18+.



Смотрите также
Картина дня
Рекомендуем